Silicon Carbide Substrates|SiC Wafers

Kurte Danasîn:

WeiTai Energy Technology Co, Ltd.Em ji bo hilberîna nîvconductor, pîşesaziya fotovoltaîk û warên din ên têkildar re hilberên kalîteya bilind, pêbawer û nûjen peyda dikin.

Rêzeya hilberê me hilberên grafît û hilberên seramîk ên bi sic/TaC ve girêdayî ye, ku ji materyalên cihêreng ên wekî karbîd silicon, silicon nitride, û oxide aluminium û hwd vedihewîne.

Heya nuha, em hilberînerê yekane ne ku paqijiya 99.9999% SiC û 99.9% karbîdê siliconê ji nû ve kristalkirî peyda dike.Dirêjahiya nixumandina SiC ya herî zêde em dikarin 2640 mm bikin.


Detail Product

Tags Product

SiC-Wafer

Karbîd silicon (SiC) materyalê yek krîstal xwedan firehiya valahiya bandê ya mezin (~ Si 3 caran), guheztina germî ya bilind (~ Si 3,3 car an GaAs 10 carî), rêjeya koçberiya têrbûna elektronê ya bilind (~ Si 2,5 carî), elektrîkê hilweşîna bilind zeviyê (~ Si 10 car an GaAs 5 carî) û taybetmendiyên din ên berbiçav.

Amûrên SiC di warê germahiya bilind, tansiyona bilind, frekansa bilind, amûrên elektronîkî yên hêza bilind û serîlêdanên hawîrdorê yên giran ên wekî hewa fezayê, leşkerî, enerjiya nukleerî, hwd. de, di pratîkê de kêmasiyên amûrên materyalê yên nîvconductor yên kevneşopî çêdike. sepanan, û hêdî hêdî dibin serweriya nîvconduktorên hêzê.

4H-SiC Taybetmendiyên substratê karbîd silicon

Item项目

Specifications参数

Polytype
晶型

4H -SiC

6H- SiC

Çap
晶圆直径

2 inç |3 inç |4 inç |6 inch

2 inç |3 inç |4 inç |6 inch

Qewîtî
厚度

330 μm ~ 350 μm

330 μm ~ 350 μm

Conductivity
导电类型

N – cure / Semi-insulating
N型导电片/ 半绝缘片

N – cure / Semi-insulating
N型导电片/ 半绝缘片

Dopant
掺杂剂

N2 (Nîtrojen) V (Vanadyûm)

N2 (Azot) V (Vanadyûm)

Orientation
晶向

Li ser eksê <0001>
Jêderê <0001> ji 4°

Li ser eksê <0001>
Jêderê <0001> ji 4°

Berxwedan
电阻率

0,015 ~ 0,03 ohm-cm
(4H-N)

0,02 ~ 0,1 ohm-cm
(6H-N)

Density Micropipe (MPD)
微管密度

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

TTV
总厚度变化

≤ 15 μm

≤ 15 μm

Bow / Warp
翘曲度

≤25 μm

≤25 μm


表面处理

DSP / SSP

DSP / SSP

Sinif
产品等级

Hilberîn / Pola lêkolînê

Hilberîn / Pola lêkolînê

Crystal Stacking Sequence
堆积方式

ABCB

ABCABC

Parametreya latê
晶格参数

a=3.076A, c=10.053A

a=3.073A, c=15.117A

Mînak/eV (Band-gap)
禁带宽度

3,27 eV

3,02 eV

ε (Dîelektrîk Constant)
介电常数

9.6

9.66

Indeksa Refraction
折射率

n0 =2.719 ne =2.777

n0 =2.707, ne =2.755

Taybetmendiyên substratê Silicon Carbide 6H-SiC

Item项目

Specifications参数

Polytype
晶型

6H-SiC

Çap
晶圆直径

4 inç |6 inch

Qewîtî
厚度

350μm ~ 450μm

Conductivity
导电类型

N – cure / Semi-insulating
N型导电片/ 半绝缘片

Dopant
掺杂剂

N2 (Azot)
V (Vanadium)

Orientation
晶向

<0001> daket 4°± 0,5°

Berxwedan
电阻率

0,02 ~ 0,1 ohm-cm
(Tîpa 6H-N)

Density Micropipe (MPD)
微管密度

≤ 10/cm2

TTV
总厚度变化

≤ 15 μm

Bow / Warp
翘曲度

≤25 μm


表面处理

Rûyê Si: CMP, Epi-Amade ye
C Rû: Polonî ya optîkî

Sinif
产品等级

Dereceya lêkolînê

Cihê Karê Semicera Cihê karê nîvser 2 Makîneya alavan Pêvajoya CNN, paqijkirina kîmyewî, pêlava CVD Xizmeta me


  • Pêşî:
  • Piştî: